拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油汙，防鏽，清洗和增光性能，並能使金屬製品超過原有的光澤。本產(chan) 品性能穩定、無毒，對環境無汙染等作用。

　　金剛石拋光液的使用方法:

　　包括棘輪扳手、開口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺絲(si) 刀等，鉛錫合金、鋅合金等金屬產(chan) 品經過研磨以後，再使用拋光劑配合振動研磨光飾機，滾桶式研磨光式機進行拋光;

　　1.拋光劑投放量為(wei) (根據不同產(chan) 品的大小，光飾機的大小和各公司的產(chan) 品光亮度要求進行適當配置)，

　　2:拋光時間:根據產(chan) 品的狀態來定。

　　3.拋光完成後用清水清洗一次並且烘幹即可。

　　金剛石拋光液包括聚晶、單晶和納米3種不同類型的拋光液。金剛石拋光液由優(you) 質金剛石微粉、複合分散劑和分散介質組成，配方多樣化，對應不同的研拋過程和工件，適用性強。產(chan) 品分散性好、粒度均勻、規格齊全、質量穩定，廣泛用於(yu) 硬質材料的研磨和拋光。

　　製作步驟

　　依據機械加工原理、半導體(ti) 材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表麵工程學、半導體(ti) 化學基礎理論等，對矽單晶片化學機械拋光(CMP)機理、動力學控製過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個(ge) 複雜的多相反應，它存在著兩(liang) 個(ge) 動力學過程:

　　(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與(yu) 襯底片表麵的矽原子在表麵進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體(ti) 。

　　(2)拋光表麵反應物脫離矽單晶表麵，即解吸過程使未反應的矽單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控製拋光速率的另一個(ge) 重要過程。

　　矽片的化學機械拋光過程是以化學反應為(wei) 主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與(yu) 機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大於(yu) 機械拋光作用，則拋光片表麵產(chan) 生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大於(yu) 化學腐蝕作用，則表麵產(chan) 生高損傷(shang) 層。